摘要：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是半導(dǎo)體制造中關(guān)鍵的平坦化工藝，而控制研磨液中的大顆粒計(jì)數(shù)（LPC）對(duì)確保晶圓表面質(zhì)量和提高產(chǎn)品良率至關(guān)重要。隨著工藝向更小納米級(jí)發(fā)展，對(duì)LPC的檢測(cè)精度要求更高。文章討論了LPC檢測(cè)的技術(shù)難點(diǎn)，包括高濃度樣品干擾和大顆粒計(jì)數(shù)量化問題，并提出了自動(dòng)稀釋技術(shù)和高靈敏度的單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)（SPOS）作為解決方案。此外，文章還探討了LPC對(duì)CMP工藝的影響，包括表面平整度、拋光速率和設(shè)備損耗，并提供了從原材料到CMP slurry制造端的整套LPC監(jiān)控方案，以優(yōu)化工藝參數(shù)和保證設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行。

關(guān)鍵詞：大顆粒計(jì)數(shù)，LPC，化學(xué)機(jī)械拋光，研磨液，Slurry，